第65章 首富从接管钢管厂开始（12）(4/5)
国产光刻机虽然只能进行28纳米的芯片光刻，但这也是实现了巨大的飞跃！！
因为28纳米这个节点，被证明是一个在成本、性能、需求等多方面达到了比较优化的组合的一个节点。
很多芯片产品，28纳米能够满足自己的需求。因此在半导体制造业界仍然占据了很大的一块市场份额。
这也是给了国内芯片制造留了一个保命符。所以当复兴半导体造出28纳米的光刻机时，国家直接发放了100亿的补助。
甚至水淼的云华手机，使用自产28纳米芯片，就可以大大减少代工需求的比例，从而降低中低端手机的成本。
到这一步，水淼甚至已经达到国内领先水平了，但他觉得这才刚刚开始攀登呢，他要站在山顶才行。
“……很抱歉打扰大家的雅兴，我知道大家都在为28纳米的成功而欢呼庆祝。但我不得不说，同志们，我们需要进入14纳米时代，实在不好意思，在大家刚进入28纳米时代，就急着让大家继续奔跑，但是前方风景更好……”
水淼现在朝着14纳米的制程推进了，理论上来说28纳米的光刻机，在双倍曝光的基础下，也能够光刻14纳米的芯片，但是次品率会大大增加，非常的得不偿失。
而14纳米光刻机，就目前来说是高端的技术。双倍曝光的情况下，它可以光刻7纳米制程的芯片，甚至还可以四倍曝光……。
一旦14纳米光刻机的出现，这就完全不一样了。可以说，整个芯片行业都会发生翻天覆地的变化。
当前，水淼被光刻机的镜头难住了。光刻机的光源要经过多次反射，每次反射都会增加误差，这就要求镜面的平整度极高，必须比光刻尺度还要低上1000倍。目前能达到这种水平的只有汉斯国的蔡司。
但是现在，国内就是因为镜头不过关，始终卡在28纳米无法推进。
“或许可以在镜片镀膜机上着手……”
花了三个月，水淼看着放在工作台上大大小小的镜头，这些东西就是他这三个月的成果，通过设备检测它表面的光滑度发现甚至超过了母本光刻机，这让所有人对14纳米的光刻机成功有了更好的期待。
“试试吧。”
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