第85章 沉浸式光刻机技术成功(2/3)

给了徐端仪。
    “曹厂长，你让我们弄的沉浸式光刻机，弄出来了。”
    “什么？这么快？”曹鹏云吃了一惊。
    徐端仪笑了笑：“也不是很难的东西。”
    曹鹏云砸了砸舌，他能怎么说？
    这位大佬可是当初在什么都不知道的情况下做出光刻机的猛人，现在知道曹鹏云所说的原理，那么他做出来压根没有任何的问题。
    更何况90年代时代的光刻机，门槛其实并不高，三十多人的asml能轻易入局这个行业，连设计芯片的英特尔也可以自己做出几台尝尝鲜，反而难度最高的是把买回来的高价零件拼拼凑凑，堆出一台难度比起照相机高深些许的设备，而这个外人眼中的难度在徐端仪这些人眼中却是件简单的不能再简单的事。
    说起这个沉浸式光刻机，也是曹鹏云能想到的最容易卡死光刻机技术的一项技术。
    因为它相对简单，只是用纯水或者纯油之类的就行。
    可也就是这个技术，也是asml崛起与尼康衰落的分界点。
    在1999年的时候。
    光刻机的光源波长被卡死在193nm，成为了摆在全产业面前的一道难关。
    大半个半导体业界都参与进来，大家都想着各种法子突破。
    尼康等公司主张用前代技术的基础上，采用157nm的f2激光，走稳健道路。
    新生的euv llc联盟则押注更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。
    但技术都已经走到这地步，不管哪一种方法，做起来其实都不容易。
    这时候湾积电出现了一个叫做木本坚的工程师。
    他想到水会影响光的折射率，提出在透镜和硅片之间加一层水，让原有的193nm激光经过折射，直接越过157nm的天堑，降低到132nm。
    不过很可惜,当年的木本坚拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍米国、得国、小日子等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。
    甚至有一些半导体公司高层还给湾积电ceo捎了句狠话，让他管好木本坚不要让他跳出来搅局。
    毕竟木本坚说的这个方案只是理想情况，在精密的机器中加水
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