第135章 光刻机(2/3)

-绊地做完了简单的自我介绍。
  他有些忐忑地看着眼前的面试官们，等待着提问。
  在他看来，自己的口才实在太差，第一印象分肯定不高。
  王德发和其他面试官也正准备按照流程提问。
  却发现身边的陆总已经抢先一步开口了。
  “林涛，是吧？”陆友的声音温和了许多，带着一种引导性的意味。
  “是……是的，陆总。”林涛显然也认出了陆友，紧张地推了推眼镜。
  “别紧张，我们随便聊聊。”陆友笑了笑，安抚道。
  “我问你几个问题，不涉及具体的参数和公式，只谈理念和方向。”
  他顿了顿，组织了一下语言，随后抛出了第一个问题。
  这个问题一出口，整个会议室的空气仿佛都凝固了。
  “你认为，当前全球精密仪器领域的卡脖子问题，比如在EUV光刻机等尖端设备上，其根本症结在于材料学、光学工艺的极限。”
  “还是在于我们从底层设计理念上，就陷入了前人划定的思维定式？”
  这个问题，太宏大了！
  它完全跳出了“如何提高精度”、“如何优化结构”这类技术层面的探讨。
  直指整个行业发展的哲学核心！
  在场的几位技术面试官，有两位本身就是相关领域的专家，听到这个问题后，都不禁陷入了沉思。
  他们扪心自问，自己平时思考的，大多是如何在现有的技术路径上进行改良和追赶。
  却很少去质疑这条路径本身是否就是唯一的真理。
  而林涛，听到这个问题后，先是猛地一愣。
  他那厚厚的镜片下，双眼瞬间爆发出惊人的亮光。
  之前的紧张和木讷一扫而空，取而代之的是一种找到知音的激动！
  这个问题，他曾在无数个深夜里独自思考过！
  他身边的同学、导师，都觉得他这是好高骛远，痴人说梦。
  没想到，今天竟然被未来科技的最高掌舵者，如此轻描淡写地问了出来！
  他几乎是脱口而出，声音依旧有些颤抖，但逻辑却异常清晰：
  “陆总！我认为是后者！绝对是底层设计理念的固化！”
  “无论是材料学还是光学工艺，我们承认目前存在差距，但这些差距本质上是可以通过时间和资源投入来追赶的。”
  “可一旦我们的思想被禁锢在别人设定好的框架里，我们将永远只能扮演一个追赶者的角色，永远慢人一步！”
  “我们为什
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