第222章 双双突破(1/3)

陈立峰指着上面的阶段性战报：“许总，就在一周前，天虹激光成功下线了第一台工业级193纳米波长的ArF准分子激光器！输出功率直接飙到了60瓦！而且成功通过了72小时连续不间断稳定发光的严苛测试，彻底解决了光学谐振腔的散热变形问题！” 许晨深吸了一口气，将这两份文件与长天光学的报告并排放在了茶几上。 长天光学——NA0.85的深紫外光刻物镜系统。 天卓精密——1.5纳米定位精度的磁悬浮双工作台。 天虹激光——60瓦大功率、极度稳定的193纳米准分子光源。 许晨看着这三份代表着华国半导体设备工业最高水平的结晶，眼神变得极其深邃。 “立峰，你知道这三家公司加在一起，意味着什么吗？”许晨声音低沉。 （作者在此解释一下：光刻机研发国家从02年就开始了，这个时候双工作台和镜片都出成果了，但是作者设定的比原定的要快，原因就三点：站在国家已有的成果上、有海外搞来的顶级设备、敢砸钱不写报告。不是天宇比国家强，是许晨用资本和效率，在国家打好的地基上盖了座更高的楼。主要是效率高加上系统神力！资金依旧是晨宇资本在国内外股市搞得，内容太多了就不细写了。） 陈立峰咽了口唾沫：“意味着……我们离造出国产光刻机，只差临门一脚了？” “不，意味着从今天起，我们在半导体制造的底层设备上，终于有了真正掀桌子的实力！” 许晨猛地靠在沙发上，“国外那些巨头一直嘲笑国内的02专项造出来的都是实验室里的残次品。他们卡住镜头、卡住光源，咱们的芯片代工厂就得看他们脸色。但现在，这三大核心部件不仅做出来了，而且参数比他们想象的还要高、还要稳！” “许总，接下来怎么做？”陈立峰问道，“咱们天宇自己建厂，把这三大件攒起来造光刻机吗？” “不拼。”许晨摇了摇头，“光刻机整机集成是一个极其复杂的系统工程，就像指挥一个几万人的交响乐团。光有小提琴（镜头）、钢琴（工作台）和指挥棒（光源）还不够，还需要流体控制、涂胶显影等几万个零部件的配合。” 许晨目光如炬地看向陈立峰：“你准备一下，去找上微电子（SMEE）的负责人。他们是国内唯一有整机集成经验的国家队。2016年，他们其实已经在搞90纳米整机了，但一直苦于国
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