第120章 1nm光刻机首测成功，震撼全场！(2/4)
数，除了震惊还是震惊。
苏云杉接着报出一组极具含金量的核心参数。
“设备套刻精度控制在1.2纳米以内，单次曝光分辨率可达8纳米，配合多重曝光工艺，量产端可稳定实现1nm制程芯片规模化投产。
实验室极限工艺下，可完成0.5nm制程芯片的试产、迭代和良率测试。
同时，整机晶圆吞吐量可达每小时120片，单台设备年产能能够支撑数十万片先进制程晶圆产出，完全满足车载智控芯片、高端手机、AI算力芯片的量产需求。”
哇——
市领导和校领导又是一惊！
“整台设备核心国产化率达到100%，从真空腔体、精密运动工件台、双工件台换片系统，到光源模组、光学镜头、精密校准控制系统，全部实现自主设计、自主制造，彻底摆脱海外核心零部件的技术垄断。”
苏云杉最后总结道：“总之一句话，我可以负责任地告诉各位领导，这是当今世界上最先进的光刻机。”
天呐——
无尘实验室一片沉寂，安静得只能听到各自的心跳声和呼吸声。
市领导和校领导很清楚，0.5nm实验室试产、1nm规模化量产、100%国产化率，这三组数据意味着什么。
此前全球高端光刻领域，EUV技术被阿斯麦尔独家垄断，国内先进制程芯片始终被卡在瓶颈，如今这台国产设备的问世，堪称弯道超车，直接跳过EUV，站在HighNAEUV的领头羊位置。
但……
数据终归是数据……
实际能做到吗？
这个问题，皇甫君也想知道，没等市领导开口，她先忍不住道：“苏总，要不…现在开启测试？”
这话问到了所有人的心坎里，一个个面露期待，包括教授、研究员、副教授等协作团队。
他们只是按照苏云杉的要求制造零件、组装、调试，对于能否系统化运转，甚至达到设计要求，并不确定。
苏云杉抬起腕表看时间，“刚好9点整，好，请工作人员就位，听我指令，正式开启首次测试。”
一位工程师紧张地站在主控台前，由于设备高度自动化，人工干预较少，只需一人操作即可。
众人凝神屏息，面露紧张之色。
苏云杉平静地发布指令：“开始上机前自检，执行S1全链路校验。”
唰——
终端界面瞬间刷新海量数据流，整机光源系统、七组超高精度反射镜组、双工件台、精密对焦系统、光路校准模块
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