第325章 光刻厂的进度(2/3)
分子及共振联合实验是什么，前三轮怎么样，结果为0的意义又是什么。
这让任何一个初来乍到的实习研究员来看，都会看的两眼懵逼。
好在江野有着庞大的资料库从旁辅助，又拥有【感知者】称号的天赋加成，从电脑中排查各类相关文件也极为快速。
即便他只有七阶学徒的水准。
属于是刚踏进科研门槛半步的入门级别新手。
但最终也算是勉强磕磕绊绊地完成了下来。
一转眼就是十几天过去。
天气来到了盛夏。
即便是这片身处龙国东北区域的土地，也变得炎热起来。
这十几天里。
江野脑海中【知识殿堂】内的一千多份资料早已经换了一轮。
处理的项目简报也有过百份之多。
而在这个过程中，他也逐渐搞懂了关于光刻厂项目的详细细节。
……
光刻厂，本质上是将一台精密的光刻机进行宏观化、分布化、巨型化的建筑群级系统。
在这个系统内部一共有四个核心的系统。
光源系统，阵列系统，测量和控制系统，环境和支撑系统。
这四个系统并非是相互独立的。
其中很多技术和理论都是相互交叉你中有我的关系，这也是为什么光刻厂项目的部门名称都是光学xx之类的。
其中难度最高也是最为复杂的，是阵列系统。
江野之前所了解的光的四重折射难题，就是阵列系统中的一个子课题。
而之前光刻厂那座发生爆炸事故，将宁未未炸伤的建筑。
也是一个由透镜组成的巨大光学元件阵列。
在光刻厂项目内部被称为透镜森林。
光刻厂的项目开始于七年前，实际上，在雷多来访龙国之前，整个项目几乎已经接近百分之百的成功了。
虽然还达不到大规模投产的水准。
但是小规模地试产芯片，已经是毫无阻碍。
只不过随着灯塔国串通内部间谍的一场阴谋，让透镜森林原地蒸发，所有人的工作功亏一篑。
而更要命的是。
在这个过程中，光刻厂项目也发现了原本采用的透镜组有致命缺点——
用来调整光学元器件精度的纳米级促动器对于参考光的反馈精度不足。
因此才会被别人稍微一动参数，就直接引动了不可逆的光压爆炸。
这不是技术力高低的问题。
而是在当前的现代科学进程，人类就没有捕获该等级反馈光精度的能力！
无论是龙国，灯塔国还是任何发达国家……甚至可预见的几十年
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