第230章 流片成功！(2/3)
缘的对准标记。
张伟森与顾江河二人轮流将掩膜版极其谨慎地插入光刻机的专用夹具。
此刻车间内人虽不少，但却静得可怕。
都屏气凝神，望着参与具体工作的几位同志。
“开始粗对！”
沈永健的声音低沉。
工作台和掩膜版架在步进电机的驱动下开始微动。
很快硅片上的标记与掩膜版上的标记开始重合。
“粗对完成。”
…
“进入精对！”
随着沈永健有条不紊的指挥，卓邵文紧听其号令，在精调旋钮上以几乎难以察觉的幅度转动。
十几秒的精细调整后，两个标记完美重合！
“对准完成！锁定！”
卓邵文的声音带着一丝不易察觉的颤抖，额角已渗出汗珠。
“设置曝光剂量…启动！”
话音落下的瞬间，高强度的汞灯光源再次提亮，经过复杂的光路系统和那个崭新的高精度物镜，将掩膜版上的精细图形按比例缩小，精确地投影到硅片表面的光刻胶上。
被光线照射区域的光刻胶发生化学反应。
整个曝光过程只有几秒钟，但紫光透过观察窗映在众人脸上，气氛庄严而神圣。
曹文三和曲嵩等人在一旁，下意识地咽了口口水。
“步进！”
第一个区域曝光完成，工作台在精密导轨带动下，精确移动一个芯片的距离，将下一个未曝光的区域移动到镜头下。
对准系统再次快速进行局部微调，然后再次曝光。
如此反复，直到整片硅片的所有芯片区域都完成这一层图形的曝光。
张伟森紧盯着控制屏上的进度条，顾江河则紧张地记录着步骤。
12英寸的晶圆，光是一片步进曝光最终都耗时近一个半小时。
三片晶圆全都完成后，时间早已到了下午一点多。
曝光完成的硅片被吴培书迅速转移至专用的热板上进行短暂加热，以稳定曝光图形。
之后则被其放入显影槽进行显影工作。
一步步的流程之后，最终才进入蚀刻阶段。
一直到晚上六点多，三片晶圆的流片工作才结束。
众人无论是有操作工作的，还是车间内等待的同志，都已经空了一整天肚子。
但这会儿众人非但不累，反而愈发激动与紧张！
随着吴培书将蚀刻后剩余的光刻胶彻底除去，清洗干净后的硅片被送到进口的高倍率显微镜下。
沈永健此刻已等在此处，调整着显微镜的焦距，进行最后的测试工作。
镜头在硅片表面缓慢移动，车间里
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