第494章 真·冤大头宋远（二）(1/3)
宋远想搞光刻机，不是突发奇想，而是早有预谋的。
后世光刻机可谓是我国电子工业上的一道伤疤，西方国家对我们禁运时，科普这方面的文章和视频那是铺天盖地，宋远也是那时候才知道光刻机是如此重要！
重活到这个火红年代，宋远就想着总得改变点历史、做出点贡献，这才算不枉此生吧！
得益于看过的科普文章，宋远发现一是光刻机之前的难度不是很大，咱们国家在80年代时并不落后多少；二是国外的光刻机技术从八十年代末期开始一直困住193n这个阶段足足困了20年。
光刻机的核心之一是光源，而制造出曝光尺寸更小的芯片就需要波长更小的光源。传统光刻机从汞灯的436纳米波长到深紫外光刻技术的193纳米后迟迟无法寻找到更好的光源，一直卡了足足20年。
一直到台积电的资深处长林本坚提出一个新的方法，光的传播介质不用空气而用纯水，经过水的聚焦折射后实现更高的分辨率。
当时的光刻机头部厂家佳能和尼康都拒绝了这个方法，认为会额外增加成本。但当时还很弱小的荷兰asl拼死一搏采纳了这个想法。
这也是台积电和asl的命运转折点，2004年asl在台积电的帮助下成功研发出首台浸入式光刻机，配合其它环节的改进，最高可以做到7纳米芯片的制程，轻松击败了佳能和尼康，成为世界上最大的光刻机生产厂家。
随后asl又开始攻克极紫外光源（euv技术），想要将光源的曝光波长降低到135纳米。在英特尔、三星、台积电这些大厂的输血下于2010年研制出首台euv光刻机，2015年开始尝试量产，但一直到了2020年才大规模量产。
宋远重生前像苹果手机的3纳米a17芯片，就是euv光刻机生产的。
正因为被科普过光刻机的整体发展历程，宋远这才有些信心来搞这么高大上的玩意。
看向吴副院长，宋远笑道：“领导，钱我可以投。但我也有条件的啊！”
吴副院长笑道：“宋远同志请说！”
“领导，千树贸易投资这些研发，主要目的还是为了商业化，研发出来的光刻机要实际投入使用的！要不然
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