第164章 初步成果(1/3)

    三人走进办公室后，依次落座。

    办公室内布置简洁而不失专业，墙上挂着一些与科技相关的图表和照片，办公桌上摆放着整齐的文件和资料。

    席凡之清了清嗓子，开始介绍光刻机的初步研究情况。

    “郝金，目前我们在光刻机制造技术方面已经取得了一些阶段性的进展。光刻机的制造是一个极其复杂的过程，涉及到多个关键技术领域。” 她拿起桌上的一支笔，在空中比划着，仿佛在描绘着光刻机的构造。

    “首先是光学系统，这是光刻机的核心部件之一。我们需要制造出高精度的光学镜头，能够将光线聚焦到极小的尺寸上，以实现芯片制造所需的高分辨率。这就要求我们在光学材料的选择和加工工艺上有极高的精度和技术水平。我们的团队正在研究和开发新型的光学材料，以提高镜头的透光率和分辨率，同时优化加工工艺，确保镜头的质量和性能达到国际先进水平。” 接着，她又指向桌上的一份文件，上面画着一些复杂的机械结构示意图。

    “其次是机械系统，光刻机需要具备极高的稳定性和精度。在芯片制造过程中，任何微小的震动或位移都可能导致芯片制造失败。因此，我们在机械设计和制造方面投入了大量的精力。采用了先进的精密机械加工技术，确保各个部件的精度和配合度达到纳米级别。同时，我们还研发了一套高效的减震系统，能够有效减少外界干扰对光刻机运行的影响。”

    然后，她拿起一个芯片模型，展示给郝金看。 “再者是控制系统，它负责协调光刻机各个部分的工作，确保整个光刻过程的精确性和稳定性。我们的控制系统采用了先进的自动化技术和智能化算法，能够实时监测和调整光刻机的工作参数，以适应不同的芯片制造工艺要求。同时，我们还在不断优化控制系统的软件算法，提高其响应速度和控制精度，为光刻机的高效运行提供有力保障。”

    “另外，光刻胶也是光刻机制造中的一个关键因素。光刻胶的性能直接影响到光刻的质量和精度。我们正在与一些专业的化学材料公司合作，共同研发新型的光刻胶，以提高其感光度、分辨率和抗刻蚀能力。”

    席凡之详细地介绍着光刻机制造技术的各个方面，郝金和任以寒都听得十分认真。
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